
Customized Tungsten Sputtering Material Target with Melting Point of 3422°C
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Tungsten sputtering target Thermal Conductivity 173 W/mK Round without coating
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Melting Point 3422°C Tungsten Sputter Coating Target for Advanced Coating
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Customized Tungsten Sputtering Target with Indium Bonding and 7.5 Mohs Hardness
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Customized Tungsten Thin Film Sputter Target with 19.3 G/cm3 Density
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Indium Bonding Tungsten Sputtering Target for Thin Film Deposition Ra 0.8 μm
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Tungsten Thin Film Deposition Target for Round Substrate Deposition Techniques
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Ra 0.8 μm Tungsten Sputtering Target with Indium Bonding and 173 W/mK Thermal Conductivity
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Round Tungsten Sputtering Target W 99.95% High Purity High Density Density 19.3 G/cm3
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Melting Point 3422°C Tungsten Sputtering Target for Advanced Thin Film Deposition
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