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blanco de la farfulla

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China Fabricante de materiales de blanco de pulverización de plata 99,95% hoja de corte de blanco de pulverización redonda en venta

Fabricante de materiales de blanco de pulverización de plata 99,95% hoja de corte de blanco de pulverización redonda

Precio: $500-600/kg
MOQ: 1pieces
El tiempo de entrega: 10-15days
Marca: HaiChuan
Destacar:silver Sputtering Target, Sputtering Target 99.95%, round target sliver sheet
shape round plate purity 99.999 Material silver size customized FAQ Q1: Can I order a sample quantity ? A1: Yes, we have no MOQ. Q2: Can I add my logo on the boxes/cartons? A2: Yes,OEM and ODM are available from us. Q3: What are the benefits of being a distributor ? A3: Special discount Marketing pr... Ver más
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China Fábrica de suministro directo 99,95% Platino objetivo de pulverización Platino Pt objetivo de pulverización en venta

Fábrica de suministro directo 99,95% Platino objetivo de pulverización Platino Pt objetivo de pulverización

Precio: $3000-7700/kg
MOQ: 10kg
El tiempo de entrega: 10-15days
Marca: HaiChuan
Destacar:99.95% platinum target, platinum target 99.95%, PT platinum target odm
Factory direct supply 99.95% Platinum Target,Platinum Pt Sputtering Target A platinum sputtering target is a disc-shaped material made of high-purity platinum metal and is used in a process called sputtering. In sputtering, a target material is bombarded with plasma ions, which knock off atoms from ... Ver más
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China Objetivo de oro de pulverización de alta pureza 99,999% para el recubrimiento de pulverización de magnetrones en venta

Objetivo de oro de pulverización de alta pureza 99,999% para el recubrimiento de pulverización de magnetrones

Precio: $150-550/kg
MOQ: 10kg
El tiempo de entrega: 10-15days
Marca: HaiChuan
Destacar:99.999% rare metal alloys rare, rare metal alloys 99.999% rare, rare metal alloys 99.999% rare
High purity Gold Sputtering Target 99.999% for Magnetron Sputtering Coating A gold sputtering target is a disc-shaped material made of high-purity gold metal and is used in a process called sputtering. In sputtering, a target material is bombarded with plasma ions, which knock off atoms from the tar... Ver más
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China Objetivo de pulverización de titanio de alta pureza 4N5 Discos redondos Objetivo para revestimiento en venta

Objetivo de pulverización de titanio de alta pureza 4N5 Discos redondos Objetivo para revestimiento

Precio: $270-290/kg
MOQ: 10kg
El tiempo de entrega: 10-15days
Marca: HaiChuan
Destacar:purity round target, 4N5 round target, titanium sputtering ISO9001
high purity 4N5 titanium sputtering target round discs target for coating A titanium sputtering target is a disc-shaped material made of high-purity titanium metal and is used in a process called sputtering. In sputtering, a target material is bombarded with plasma ions, which knock off atoms from t... Ver más
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China Placa de tántalo 99,95% blanco de pulverización de tántalo puro / placa de tántalo / hoja / disco en venta

Placa de tántalo 99,95% blanco de pulverización de tántalo puro / placa de tántalo / hoja / disco

Precio: $280-300/kg
MOQ: 10kg
El tiempo de entrega: 10-15days
Marca: HaiChuan
Destacar:99.95% Pure Sputtering Target, Tantalum Sputtering Target, tantalum Plate disc
Tantalum Plate 99.95% Pure Tantalum Sputtering Target/tantalum Plate /sheet/disc A tantalum sputtering target is a disc-shaped material made of high-purity tantalum metal and is used in a process called sputtering. In sputtering, a target material is bombarded with plasma ions, which knock off atoms... Ver más
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China 99.95% Meta de pulverización de Mo1 de alta pureza Partes especiales de molibdeno Meta de pulverización de molibdeno en venta

99.95% Meta de pulverización de Mo1 de alta pureza Partes especiales de molibdeno Meta de pulverización de molibdeno

Precio: $58-65/kg
MOQ: 10kg
El tiempo de entrega: 10-15days
Marca: HaiChuan
Destacar:99.95% High purity Sputtering Target, Mo1 Sputtering Target, molybdenum sputtering ISO9001
99.95% High purity Mo1 molybdenum special parts molybdenum sputtering target Molybdenum sputtering targets are a type of material used in the process of sputtering, which is used to deposit thin films of materials onto a substrate. Sputtering is a process in which atoms from the target material are ... Ver más
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China Pvd objetivo de pulverización de cromo / precio objetivo de cromo / objetivo de pulverización de cromo en venta

Pvd objetivo de pulverización de cromo / precio objetivo de cromo / objetivo de pulverización de cromo

Precio: $35-60/kg
MOQ: 10kg
El tiempo de entrega: 10-15days
Marca: HaiChuan
Destacar:pvd chromium target, chrome chromium target, Cr chrome target
pvd chromium sputtering target/chrome target price/Cr sputtering target Chromium sputtering targets are a type of material used in the process of sputtering, which is used to deposit thin films of materials onto a substrate. Sputtering is a process in which atoms from the target material are ejected... Ver más
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China Objetivo de pulverización de zirconio Zr Objetivo para el recubrimiento de pulverización en venta

Objetivo de pulverización de zirconio Zr Objetivo para el recubrimiento de pulverización

Precio: $35-45/kg
MOQ: 10kg
El tiempo de entrega: 10-15days
Marca: HaiChuan
Destacar:Sputtering Zirconium Target, Zr Zirconium Target, Zr Target For Sputtering Coating
Zirconium Sputtering Target Zr Target For Sputtering Coating Zirconium sputtering targets are a type of material used in the process of sputtering, which is used to deposit thin films of materials onto a substrate. Sputtering is a process in which atoms from the target material are ejected and depos... Ver más
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China Equipo de laboratorio 5n/6n 99,999% Materiales de recubrimiento óptico de alta pureza de Si en venta

Equipo de laboratorio 5n/6n 99,999% Materiales de recubrimiento óptico de alta pureza de Si

Precio: $70-90/kg
MOQ: 10kg
El tiempo de entrega: 10-15days
Marca: HaiChuan
Destacar:5nSputtering Target, 6n 99.999% Sputtering Target, silicon sputtering Optical Coating
lab equipment 5n/6n 99.999% High Pure Si Silicon Sputtering Target Optical Coating Materials Silicon sputtering targets are a type of material used in the process of sputtering, which is used to deposit thin films of materials onto a substrate. Sputtering is a process in which atoms from the target ... Ver más
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